意提高孔與釘桿的加工質(zhì)量以外,還要重視裝配質(zhì)量。
蒙皮腐蝕損傷的較好方法。因?yàn)樗莒`敏地檢測(cè)出晶間腐蝕裂紋和小的蝕坑。采用渦流檢測(cè)可以估計(jì)出腐蝕損傷造成厚度減少的近似值。例如,可以估計(jì)出原厚度減少 "、"還是 %"。用渦流檢測(cè)法只能檢查外層構(gòu)件的腐蝕損傷,不能檢測(cè)出內(nèi)層構(gòu)件的腐蝕損傷。檢測(cè)腐蝕損傷,需要使用標(biāo)準(zhǔn)參考試件。
第四節(jié) &射線檢測(cè)
射線檢測(cè)法是利用某些射線能穿透物質(zhì)并且能使膠片感光或使某些熒光物質(zhì)發(fā)光的特性,對(duì)試件進(jìn)行探傷。通常,易于穿透物質(zhì)的射線有 ’射線、丁射線和中子射線等。
一、射線的產(chǎn)生
(一) ’射線的產(chǎn)生 ’射線是由一種特制的 ’射線管產(chǎn)生的。射線管非常類似于二極電子管。 ’射線管由陰極、陽(yáng)極和玻璃外殼組成。陰極燈絲通電加熱后,電子就在真空管中放出。這些熱電子在高壓電場(chǎng)(電壓幾萬伏到幾十萬伏)作用下,以相當(dāng)大的速度向陽(yáng)極金屬靶撞擊。當(dāng)熱電子撞擊到陽(yáng)極靶后,大部分能量轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮,而一部分轉(zhuǎn)變?yōu)?’射線能,透過 ’射線管的管壁向外面發(fā)射。通常,探傷用的 ’射線就是由此而產(chǎn)生的。 ’射線的密度是由加熱陰極燈絲的電流控制的。(二) 射線的產(chǎn)生
射線是放射性原子核在自然裂變時(shí)放射出來的電磁波。原子核是由質(zhì)子和中子組成的,質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)的總和叫做原子核質(zhì)量數(shù)。例如,普通的鈷原子核含有 (個(gè)質(zhì)子和 %個(gè)中子,所以質(zhì)量數(shù)為 )*,寫作 +,)*。把 +,)*放進(jìn)原子反應(yīng)堆,使它吸收中子,它就增加一個(gè)中子變成 +, -"。這是一種不穩(wěn)定的元素,叫做放射性同位素。 +, -"原子核中的一個(gè)中子變?yōu)橘|(zhì)子時(shí),就成為穩(wěn)定的 ./-",與此同時(shí)放射出 "和 射線。因同位素是在裂變時(shí)放出射線的,所以射線源隨著時(shí)間的推延而逐漸減弱。強(qiáng)度減到一半的時(shí)間叫做半衰期。在無損檢測(cè)中應(yīng)用的射線源,半衰期至少幾十天,否則就沒有什么實(shí)用價(jià)值了。能滿足這個(gè)條件的同位素還有 +0%((銫)、12*(銥)和 34("(銩)等。
射線源比 ’射線源裝置小,有利于在現(xiàn)場(chǎng)較狹窄或外場(chǎng)檢測(cè)時(shí)應(yīng)用。關(guān)斷 ’射線源裝置的電源,它就不會(huì)再發(fā)出 ’射線。但是,同位素射線源(如 射線源)與此不同,它是連續(xù)不斷地發(fā)射出射線的,因此,對(duì)同位素射線源的管理必須 •*(%•
嚴(yán)格。通常,同位素嚴(yán)格封存在帶有鉛板屏蔽保護(hù)的裝置中,只有在使用時(shí),才打開它。
二、射線檢測(cè)的基本原理
射線和 射線都是波長(zhǎng)很短的電磁波。 射線的波長(zhǎng)比 射線的波長(zhǎng)更短。 射線和 射線都具有穿透金屬或其他物質(zhì)的能力。 射線的穿透能力更強(qiáng)一些。下面以 射線為例,說明射線檢測(cè)的基本原理。
射線穿透金屬或其他物質(zhì)的穿透率與被照物質(zhì)的種類、厚度或密度有關(guān)。物質(zhì)密度越高,射線被吸收量越多,穿透率越低。 射線透過被檢物體時(shí),缺陷或損傷部位(如氣孔、非金屬夾雜物等)的密度與基體金屬不同,對(duì)射線的吸收能力是不同的。缺陷或損傷部位所含的空氣或夾雜物對(duì)射線的吸收能力大大低于基體金屬對(duì)射線的吸收能力。這樣,透過有缺陷或損傷部位的射線強(qiáng)度高于無缺陷或損傷部位的射線強(qiáng)度。所以, 射線感光膠片上對(duì)應(yīng)于缺陷或損傷的部位,接受的 射線粒子就多,從而所形成缺陷或損傷影像的黑度也就高。缺陷或損傷沿射線透照方向的深度越深,或被透照物質(zhì)的射線衰減系數(shù)越大,則透過缺陷部位與其他部位的射線強(qiáng)度差越大,從而反映在底片上的黑度差也越大,缺陷就越容易被發(fā)現(xiàn)(見圖 " %)。
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